Sự kết hợp của thấu kính f-theta và bộ phận làm lệch là giải pháp lý tưởng cho nhiều ứng dụng đánh dấu và khắc. Xét cho cùng, đối với các trường làm việc vừa và nhỏ, nó cung cấp đường kính tiêu điểm nhỏ và hiệu chỉnh trường phẳng tốt với các biến thể điểm thấp.
Tuy nhiên, các phôi không phải lúc nào cũng phẳng. Đặc biệt là khi làm sạch các thành phần khỏi sơn, lớp oxit hoặc dầu, cắt các bảng mạch in linh hoạt hoặc đánh dấu, điều quan trọng là phải tuân theo đường viền của thành phần để đạt được kết quả xử lý mong muốn. Điều quan trọng nữa là phải hiệu chỉnh vị trí tiêu điểm trong quá trình khắc sâu hoặc khoan và cắt kính. Khoan Động lực học cao nhất.
Đối với các ứng dụng này, FOCUSSHIFTER RD-14 là sự lựa chọn phù hợp. Nó bổ sung một hệ thống thấu kính có thể điều chỉnh vào sự kết hợp của thấu kính f-theta và bộ phận làm lệch, cho phép thiết lập vị trí z của tiêu điểm một cách động. Do đó, có thể xử lý từng lớp (2.5D) cũng như xử lý trong không gian (3D). Nhờ thiết kế cực kỳ nhỏ gọn và các tùy chọn lắp đặt đa dạng, nó có thể được tích hợp linh hoạt vào các hệ thống laser.
Do đó, FOCUSSHIFTER RD-14 cung cấp cho các nhà tích hợp hệ thống một giải pháp hấp dẫn để mở rộng hệ thống laser sang các phôi ba chiều. Và nhờ ống kính f-theta, FOCUSSHIFTER RD-14 hoạt động đặc biệt tốt khi xử lý các phôi có nhiều mức độ cao khác nhau
KHOAN VÀ CẮT KÍNH BẰNG LASER
Khi khoan hoặc cắt qua các lớp kính dày hơn, chiều cao z cố định thường dẫn đến điểm laser không hội tụ. Kết quả là độ sâu khoan không chính xác và thành lỗ không đều, ảnh hưởng đến độ chính xác và chất lượng của kính thành phẩm. Do đó, các chuyên gia kỹ thuật trong lĩnh vực chế biến kính cần một giải pháp đảm bảo tiêu điểm nhất quán cho mọi quy trình khoan hoặc cắt, đảm bảo độ chính xác cao và ứng suất vật liệu tối thiểu ngay cả với các độ dày kính khác nhau.
FOCUSSHIFTER RD-14 đáp ứng các yêu cầu này với trục z quang học có thể điều chỉnh động. Nhờ công nghệ RAYVOLUTION DRIVE, máy cho phép điều chỉnh tiêu điểm theo thời gian thực trong suốt quá trình. Điều này đảm bảo rằng tia laser vẫn hội tụ tối ưu ở độ sâu chính xác, mang lại kết quả khoan chính xác, sạch và nhất quán. Việc sử dụng thấu kính f-theta trong FOCUSSHIFTER RD-14 cũng cho phép giảm thiểu các biến thể điểm trên toàn bộ trường làm việc và góc tới đồng đều, không đổi thông qua thấu kính telecentric.
KHẮC VÀ ĐÁNH DẤU BẰNG LASER 3D
Khắc và đánh dấu trên các bề mặt 3D. Trục z động của FOCUSSHIFTER RD-14 cho phép điều chỉnh tiêu cự tối ưu trong quá trình khắc. Kết quả là, mã QR và các dấu khắc vẫn rõ ràng, dễ đọc ngay cả trên các bề mặt không đồng đều. (Nguồn: Laserax)
Khi khắc và đánh dấu trên các vật liệu có hình dạng phức tạp, việc duy trì tiêu cự đồng đều trên các đường viền và bề mặt khác nhau là một thách thức. Nếu không có khả năng điều chỉnh độ cao trục z, laser có thể mất tiêu cự khi di chuyển qua các bề mặt không bằng phẳng hoặc 3D. Điều này dẫn đến độ sâu khắc không đồng đều, các ký hiệu bị mờ và có thể gây hỏng vật liệu. Sự thiếu chính xác này đặc biệt gây vấn đề với các thiết kế phức tạp hoặc khi yêu cầu độ chi tiết cao. Do đó, các kỹ sư trong lĩnh vực này cần một giải pháp để duy trì tiêu cự chính xác, ổn định và thích ứng linh hoạt với hình dạng phức tạp của các vật liệu.
Trục z quang học có thể điều chỉnh động của FOCUSSHIFTER RD-14 cho phép điều chỉnh tiêu cự nhanh gần như theo thời gian thực, đảm bảo laser luôn tập trung tối ưu trên mọi đường viền và góc của vật liệu. Điều này mang lại các kết quả khắc và đánh dấu sắc nét, đồng đều, bất kể sự phức tạp của bề mặt.
FOCUSSHIFTER RD-14 giúp bạn đạt được hiệu suất và chất lượng tối ưu khi khắc và đánh dấu, ngay cả với các vật liệu có hình dạng phức tạp.
Thông số | Giá trị |
---|---|
Nguồn cung cấp (Power Supply) | |
Điện áp [V] (Voltage) | +48 |
Dòng điện (RMS) [A] (Current RMS) | 4 |
Dòng điện tối đa [A] (Current max.) | 8 |
Gợn sóng/Nhiễu @ 20 MHz bandwidth [mV pp] (Ripple/Noise) | Max. 200 |
Nhiệt độ môi trường [°C] (Ambient temperature) | +15 đến +35 |
Nhiệt độ lưu trữ [°C] (Storage temperature) | -10 đến +60 |
Độ ẩm không ngưng tụ [%] (Humidity non-condensing) | ≤ 80 |
Cấp độ bảo vệ IP (IP Code) | 64 |
Tín hiệu giao diện (Interface signals) | Digital (XY2-100 Enhanced protocol 16 Bit, SL2-100 protocol 20 Bit) |
Độ lệch tiêu chuẩn (Typical deflection - optical) [rad] | ± 0.393 |
Độ phân giải XY2-100 16 Bit [µrad] (Resolution) | 12 |
Độ phân giải RL3-100 / SL2-100 20 Bit [µrad] (Resolution) | 0.76 |
Độ lặp lại (RMS) [µrad] (Repeatability) | < 2.0 |
Nhiễu vị trí (RMS) [µrad] (Positioning noise) | < 4.5 |
Trôi nhiệt độ (Temperature drift) | |
Trôi khuếch đại tối đa [ppm/K] (Max. Gaindrift) | 15 |
Trôi bù tối đa [µrad/K] (Max. Offsetdrift) | 10 |
Trôi dài hạn 8 giờ [µrad] (Long-term drift 8 h) | < 60 |
Thông số | Giá trị |
---|---|
Bộ điều hướng tia (Deflection Unit) | FOCUSSHIFTER RD-14 |
Khẩu độ đầu vào giới hạn [mm] (Limiting input aperture) | 5.0 |
Dịch chuyển chùm tia [mm] (Beam displacement) | 17.0 |
Đường kính chùm tia đầu vào tối ưu (Optimum input beam diameter) | |
- Toàn bộ chùm tia [mm] (Full beam) | 4.7 |
- 1/e² [mm] | 3.1 |
Trọng lượng (không bao gồm ống kính f-theta) [kg] (Weight without f-theta lens) | 5.5 |
Kích thước (không bao gồm đầu nối điện) (Dimensions without electrical connectors) (L x W x H) [mm] | 330.0 x 105.0 x 134.0 |
Thông số | FOCUSSHIFTER RD-14 SI | FOCUSSHIFTER RD-14 QU | ||
---|---|---|---|---|
Tốc độ viết [cps] với chất lượng viết cao/tốt | 650 / 800 | - | ||
Tốc độ xử lý [rad/s] (Processing speed) | 30 / 50 | 30 / 100 | ||
Tốc độ định vị [rad/s] (Positioning speed) | 90 / 50 | 90 / 100 | ||
Lỗi theo dõi [ms] (Tracking error) | 0.16 / 0.20 | 0.17 / 0.30 | ||
Thời gian tăng tốc xấp xỉ [ms] (Acceleration time) | 0.30 / 0.46 | 0.30 / 0.60 | ||
Thời gian phản hồi bước ở 1% toàn thang đo [ms] | 0.36⁴ / 0.68⁵ | 0.36⁴ / 0.69⁵ | ||
Lỗi theo dõi bộ lấy nét [ms] (Tracking error focusing unit) | 0.9 | 0.9 | ||
Tốc độ ống kính di chuyển [mm/s] (Speed of moving lens) | 900 | 900 |
Bước sóng và lớp phủ (Wavelength and coatings) | Chất liệu gương (Mirror substrate) | Công suất laser tối đa cho phép [W] (Maximum permissible laser power) |
---|---|---|
355 nm | SI | 100 / 20 (MVC) |
532 nm | SI | 200 |
1,064 nm | SI | 300 |
1,070 nm | QU | 1,000 |